商标_第7类商标详情-华唯商标查询网

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商标详情

注册号	G1504160	7类	申请日期	2019年12月19日
申请人名称(中文)	CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
申请人地址(中文)	Württemberger Straße 31 89143 Blaubeuren
申请人名称(英文)	CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
申请人地址(英文)	Württemberger Straße 31 89143 Blaubeuren

初审公告期号		注册公告期号
初审公告日期		注册公告日期
专用权日期		是否共用商标	否
后期指定日期	1970年01月01日	国际注册日期	2019年10月17日
优先权日期		代理人名称	国际局
指定颜色		商标类型	普通
商标状态
商品/服务列表	热处理或制造过程用装置和设备，即涂层炉、真空钎焊机、化学气相沉积（CVD装置）装置在真空（所谓CVD法）或大气或暴露于等离子体状态下通过蒸发作用的半导体表面用表面处理机，以及在真空（所谓CVD法）或大气或暴露于等离子体状态下作用的半导体表面涂布机用于蚀刻半导体表面的机器基于等离子体和热辐射的表面处理机原子层沉积机器（ALD—原子层沉积）用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器热处理或制造过程用装置和设备，即涂层炉、真空钎焊机、化学气相沉积（CVD装置）装置运输用机械（大气或负压或预定气体环境下）用于加工半导体、太阳能电池、纤维和其他基板的机器基于辐射的快速加热装置用于表面和物体热处理的机器，即扩散炉、输送炉、涂层炉、退火系统热处理机器，即半导体、太阳能电池、纤维和其他基底的热处理及其真空热处理用炉层压炉燃烧炉热处理或制造过程用装置和设备，即退火装置用于净化气体和废气的机器建造、修理、安装和维护服务，即机器和机床及其零部件，上述均用于太阳能电池（统包解决方案）、半导体、纤维及其原材料的制造和加工大气和负压状态下半导体设备的组装操作上述商品用硬件和软件真空炉

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