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注册号 G1508920 21类 申请日期 2020年01月16日
申请人名称(中文) NITTA HAAS INCORPORATED
申请人地址(中文) 4-4-26 Sakuragawa, Naniwa-ku, Osaka-shi Osaka 556-0022
申请人名称(英文) NITTA HAAS INCORPORATED
申请人地址(英文) 4-4-26 Sakuragawa, Naniwa-ku, Osaka-shi Osaka 556-0022
初审公告期号 注册公告期号
初审公告日期 注册公告日期
专用权日期 是否共用商标
后期指定日期 1970年01月01日 国际注册日期 2019年08月22日
优先权日期 代理人名称 国际局
指定颜色 商标类型 普通
商标状态
商品/服务列表
  • 用于制造硬盘用抛光机器和设备的模板
  • 用于制造硬盘用抛光机器和设备的夹持装置
  • 玻璃基板抛光机械和设备的零部件和附件
  • 玻璃基板抛光机械和设备
  • 用于玻璃基板抛光机用抛光垫的调节器和设备
  • 玻璃基板抛光机械和设备用抛光垫
  • 玻璃基板抛光机械和设备用安装垫和片
  • 玻璃基板抛光机械和设备用空白模板
  • 玻璃基板抛光机械和设备用模板
  • 玻璃基板抛光机械和设备用夹持装置
  • 玻璃抛光机械和设备的零部件和附件
  • 玻璃抛光机械和设备
  • 用于玻璃抛光机用抛光垫的调节器和设备
  • 玻璃抛光机器和设备用抛光垫
  • 玻璃抛光机器和设备用安装垫和片
  • 玻璃抛光机器和设备用空白模板
  • 玻璃抛光机器和设备用模板
  • 玻璃抛光机器和设备用夹持装置
  • 半导体制造机器和设备
  • 半导体晶片表面抛光机器和设备的零部件和附件
  • 半导体晶片表面抛光机器和设备
  • 用于半导体晶圆表面抛光机用抛光垫的调节器及设备
  • 半导体晶片表面抛光机器和设备用抛光垫
  • 半导体晶片表面抛光机器和设备用安装垫和片
  • 半导体晶片表面抛光机器和设备用空白模板
  • 半导体晶片表面抛光机器和设备用模板
  • 半导体晶片表面抛光机器和设备用夹持装置
  • 研磨用制剂
  • 抛光制剂
  • 抛光用纸
  • 研磨砂
  • 砂布
  • 研磨纸(砂纸)
  • 电子基板抛光用化学抛光液
  • 半导体抛光用化学抛光液
  • 化学品
  • 工业用去污剂
  • 工业抛光用亲水剂
  • 用于制造硬盘用抛光机器和设备的抛光垫
  • 用于电动抛光机器和设备的安装垫和片
  • 用于电动抛光机器和设备的空白模板
  • 用于电动抛光机器和设备的模板
  • 用于电动抛光机器和设备的夹持装置
  • 制造硬盘用抛光机器和设备的零部件和附件
  • 制造硬盘用抛光机器和设备
  • 用于制造硬盘用抛光机器和设备抛光垫的修整器
  • 用于电动抛光机的抛光布
  • 用作电动抛光机零部件或附件的抛光布
  • 用于电动抛光机的抛光垫
  • 电动抛光机的零部件和附件以及设备
  • 电动抛光机器和设备
  • 用于电动抛光机器和设备的抛光垫的修整器
  • 用于电动抛光机器和设备的抛光垫
  • 用于制造硬盘用抛光机器和设备的安装垫和片
  • 用于制造硬盘用抛光机器和设备的空白模板
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