CMC MATERIALS
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商标详情

注册号 43870260 1类 申请日期 2020年01月17日
申请人名称(中文) 卡博特微电子公司
申请人地址(中文) 美国伊利诺伊州60504奥罗拉北平民大道870号
申请人名称(英文) CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION
申请人地址(英文) 870 N.COMMONS DRIVE,AURORA,ILLINOIS 60504,U.S.A.
初审公告期号 注册公告期号
初审公告日期 注册公告日期
专用权日期 是否共用商标
后期指定日期 国际注册日期
优先权日期 2019年12月09日 代理人名称 中国专利代理(香港)有限公司
指定颜色 商标类型 普通
商标状态
商品/服务列表
  • 用于增加通过管道的碳氢化合物流量的含聚合物增流剂
  • 用于半导体处理使其平坦、光滑或改变其化学机械属性的化学机械抛光浆料
  • 半导体生产加工用化学溶液
  • 半导体、电子、硬盘和磁头工业用抛光浆料
  • 抛光耗材
  • 半导体用抛光浆料
  • 电线杆和线担处理用化学品
  • 工业木材加工用化学品
  • 用于半导体处理使其平坦、光滑或改变其机械、物理、化学和电子属性的抛光浆料
  • 半导体抛光用疏水性气相二氧化硅
  • 苯并三唑
  • 光刻胶剥离液
  • 化学添加剂
  • 半导体抛光用含水金属氢化物分散剂
  • 半导体生产、太阳能电池板生产和平板显示器生产用化学物质
  • 电子元件生产用高纯度化学物质
  • 半导体工业中高级集成电路设备生产用抛光浆料
  • 电子元件和基板、光学元件、金属、机械、计算机零件以及磁性数据存储盘和磁头生产用磨料分散剂
  • 脯氨酸溶液
  • 半导体、集成电路和相关产品生产中用于去除光刻胶和蚀刻后残留物的化学物质
  • 用于增加通过管道的碳氢化合物流量的含聚合物减阻剂
  • 化学品
  • 石油和天然气钻探、加工和勘探工业用化学品和化学混合物
  • 工业和科学用化学品,即半导体和微电子工业用化学品
  • 工业和科学用化学品
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