SHINMAYWA
SHINMAYWA
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商标详情

注册号 4114951 7类 申请日期 2004年06月11日
申请人名称(中文) 新明和工业株式会社
申请人地址(中文) 日本国兵库县宝塚市新明和町1番1号
申请人名称(英文) SHINMAYWA INDUSTRIES,LTD.
申请人地址(英文) 1-1,SHINMEIWA-CHO,TAKARAZUKA-SHI,HYOGO,JAPAN
初审公告期号 1081 注册公告期号 1093
初审公告日期 2007年07月28日 注册公告日期 2007年10月28日
专用权日期 2017年10月28日至2027年10月27日 是否共用商标
后期指定日期 国际注册日期
优先权日期 代理人名称 上海专利商标事务所有限公司
指定颜色 商标类型 普通
商标状态
商品/服务列表
  • 自动电线处理机
  • 半导体制造设备(薄膜涂覆用)
  • 半导体制造设备
  • 塑料处理设备(薄膜涂覆用)
  • 塑料处理设备
  • 玻璃制造设备(薄膜涂覆用)
  • 玻璃制造设备
  • 飞机乘客登机桥
  • 鼓风机
  • 充气器
  • 搅拌机(机器)
  • 真空薄膜涂覆设备
  • 气动元件
  • 液压元件(不包括车辆液压系统)

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李霞
商标资深顾问

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