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商标详情

注册号	3412022	40类	申请日期	2002年12月20日
申请人名称(中文)	南亚科技股份有限公司
申请人地址(中文)	台湾新北市泰山区大科里南林路98号
申请人名称(英文)
申请人地址(英文)

初审公告期号	926	注册公告期号	938
初审公告日期	2004年05月07日	注册公告日期	2004年08月07日
专用权日期	2014年08月07日至2024年08月06日	是否共用商标	否
后期指定日期		国际注册日期
优先权日期		代理人名称	隆天知识产权代理有限公司
指定颜色		商标类型	普通
商标状态
商品/服务列表	晶圆之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械研磨加工(替他人) 晶片之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械研磨加工(替他人) 半导体之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械研磨加工(替他人) 集成电路之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械研磨加工(替他人) 晶圆之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械处理(替他人) 晶片之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械处理(替他人) 半导体之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械处理(替他人) 集成电路之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械处理(替他人) 晶圆装配(替他人) 晶片装配(替他人) 半导体装配(替他人) 晶圆封装加工(替他人) 晶片封装加工(替他人) 半导体封装加工(替他人) 集成电路封装加工(替他人) 光罩装配(替他人) 光罩封装加工(替他人) 电子或电脑装配(替他人) 集成电路装配(替他人)

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李霞

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