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李霞
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| 注册号 | 3337241 | 9类 | 申请日期 | 2002年10月16日 |
| 申请人名称(中文) | 真空器械工业株式会社 | |||
| 申请人地址(中文) | 日本东京都品川区大井三丁目24番8号 | |||
| 申请人名称(英文) | SHINCRON CO.，LTD. | |||
| 申请人地址(英文) | ||||
| 初审公告期号 | 注册公告期号 | |||
| 初审公告日期 | 注册公告日期 | |||
| 专用权日期 | 是否共用商标 | 否 | ||
| 后期指定日期 | 国际注册日期 | |||
| 优先权日期 | 代理人名称 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | ||
| 指定颜色 | 商标类型 | 普通 | ||
| 商标状态 | ||||
| 商品/服务列表 |
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