KIE
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商标详情

注册号 3124634 1类 申请日期 2002年03月25日
申请人名称(中文) 多联科技股份有限公司
申请人地址(中文) 台湾台北市复兴南路一段390号5楼之3
申请人名称(英文)
申请人地址(英文)
初审公告期号 873 注册公告期号 885
初审公告日期 2003年03月28日 注册公告日期 2003年06月28日
专用权日期 2013年06月28日至2023年06月27日 是否共用商标
后期指定日期 国际注册日期
优先权日期 代理人名称 中科专利商标代理有限责任公司
指定颜色 商标类型 普通
商标状态
商品/服务列表
  • 平光剂
  • 褪光剂
  • 防污膜剂
  • 抗蚀刻剂
  • 炭膜处理剂
  • 氧化稳定剂
  • 浓度稳定剂
  • 半导体用光阻液
  • 除去电路板及电子零件光阻液及熔接的化学溶剂
  • 印刷用均化剂
  • 集成电路用洗净液
  • 集成电路用显影剂
  • 集成电路用薄膜形成液
  • 晶片抛光用研磨液
  • 集成电路用蚀刻液
  • 集成电路去光阻剂后的清洁剂
  • 消光剂
  • 半导体用显像剂
  • 制造印刷电路板用显像剂
  • 表面活性化学剂
  • 抗氧化剂
  • 金属电解脱脂剂
  • 电子工业用清洁剂

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李霞
商标资深顾问

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