KIE
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商标详情

注册号 3124634 1类 申请日期 2002年03月25日
申请人名称(中文) 多联科技股份有限公司
申请人地址(中文) 台湾台北市复兴南路一段390号5楼之3
申请人名称(英文)
申请人地址(英文)
初审公告期号 873 注册公告期号 885
初审公告日期 2003年03月28日 注册公告日期 2003年06月28日
专用权日期 2013年06月28日至2023年06月27日 是否共用商标 否
后期指定日期 国际注册日期
优先权日期 代理人名称 中科专利商标代理有限责任公司
指定颜色 商标类型 普通
商标状态
商品/服务列表
  • 平光剂
  • 褪光剂
  • 防污膜剂
  • 抗蚀刻剂
  • 炭膜处理剂
  • 氧化稳定剂
  • 浓度稳定剂
  • 半导体用光阻液
  • 除去电路板及电子零件光阻液及熔接的化学溶剂
  • 印刷用均化剂
  • 集成电路用洗净液
  • 集成电路用显影剂
  • 集成电路用薄膜形成液
  • 晶片抛光用研磨液
  • 集成电路用蚀刻液
  • 集成电路去光阻剂后的清洁剂
  • 消光剂
  • 半导体用显像剂
  • 制造印刷电路板用显像剂
  • 表面活性化学剂
  • 抗氧化剂
  • 金属电解脱脂剂
  • 电子工业用清洁剂

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李霞
商标资深顾问

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